在前一篇文章中,我解释了如何获得集成电路MOSFET的高级SPICE模型,并将其纳入LTspice仿真中。然后,我们使用这个模型来研究NMOS晶体管的阈值电压。在本文中,我们将使用相同的模型来生成直观地传达晶体管电气行为的图。
绘制漏极电流与漏极电压
我们将从生成漏极电流(ID)与漏极-源极电压(VDS)的基本图开始。为此,我们将栅极电压设置为远高于阈值电压的固定值,然后执行直流扫描模拟,其中VDD的值逐渐增加。图1显示了我们将要使用的示意图。
用于产生漏极电流对漏极电压曲线的LTspice NMOS示意图。
图1。基本NMOS晶体管的LTspice示意图。我们将使用它来生成漏极电流与漏极电压的曲线。
1V的栅极-源极电压(VGS)远远高于320 mV,这是我们在前一篇文章中通过模拟发现的阈值电压。同时,图1右下角的.dc模拟命令告诉LTspice做两件事:
以0.01 V的增量将V2电源(VDD)从0 V增加到1.5 V。
使用此系列VDD值作为自变量。
我们的模拟结果如图2所示。
图1中NMOS晶体管的漏极电流与漏极电压。
图2:我们的漏极电流与漏极-源极电压的初始曲线图。
栅极电压足够高以使能导通,因此一旦VDS增加到零以上,电流就开始流动。对于较低的漏极电压,漏极电流响应于VDS的线性增加而线性增加。然而,漏极电流在大约0.4V处开始变平,并且此后增加得更慢。从曲线图的较高斜率部分到较低斜率部分的这种转变对应于从FET的线性区域到其饱和区域的转变。
当漏极电压较低时,栅极电压打开从漏极延伸到源极的沟道,电流更自由地流过FET的沟道。随着漏极电压接近过驱动电压,漏极处的沟道被夹断,电流不再像以前那样自由流动。过驱动电压等于栅极电压减去阈值电压。
测量线性区域的电阻
线性区域中的NMOS表现得像电压控制的电阻器。这就是这个区域的名字——当电流流过普通电阻时,电压和电流之间的关系是线性的。如果我们观察欧姆定律,这一点是显而易见的:
如果我们用我们许多人在高中代数中使用的字母代替V、I和R,欧姆定律就变成了:
解释
y、 纵轴,是电压
x、 横轴,是电流
m、 绘制线的斜率是阻力。
为了确定线性区域中NMOS晶体管的电阻,我们只需要找到m。由于我们在图2中绘制了漏极电流和漏极电压之间的关系,我们已经完成了一半。然而,我们在y轴上绘制电流,在x轴上绘制电压——要使V=IR工作,电压必须是y值,电流必须是x。m不是图2中直线的斜率,而是斜率的倒数。
这只增加了一个额外的步骤。我们使用LTspice来找到斜率(图3),然后取倒数。
光标框显示漏极电流与漏极电压曲线的斜率。
图3。在FET的线性区域中找到漏极电流与漏极电压曲线的斜率。
该线的斜率为0.00084。因此,总电阻为1/0.00084=1190Ω。该总电阻包括一个100Ω的漏极电阻器,使NMOS的沟道电阻等于1090Ω。
更高的栅极-源极电压使沟道更导电,因此如果我们增加栅极电压,我们可以预期该电阻会降低。图4显示了如果我将栅极电压增加到2V会发生什么。
一旦栅极电压增加,漏极电流对漏极电压曲线的斜率。
图4。一旦栅极电压增加到2V,漏极电流对漏极电压曲线的斜率。
当VGS=2 V时,斜率等于0.00099。取该值的倒数得出1010Ω。一旦我们减去100Ω的漏极电阻,FET在线性区域的沟道电阻为910Ω。这比我们之前的电阻值减少了180Ω,所以我们可以认为我们的预期得到了证实。
生成一组特征曲线
FET行为的讨论通常伴随着漏极电流对漏极电压的图,该图包括多条曲线来表示不同栅极到源极电压的结果。这允许单个绘图来传达关于栅极到源极电压、漏极到源极的电压和漏极电流之间的电关系的大量信息。
要在LTspice中生成这种类型的图,我们只需要修改模拟命令,使其指定V2和V1(即栅极电压)的扫描。新的模拟命令是:
V2扫描与以前相同,但我们添加了文本,告诉LTspice以0.5 V的增量将V1源从0 V增加到3 V。结果是图5中的多色图。
七个不同栅极电压值的漏极电流与漏极电压。
图5。栅极电压的七个不同值的漏极电流与漏极电压。
要使绘图显示如图5所示的图例,只需执行以下步骤:
在绘图窗口上单击鼠标右键。
转到“查看”。
选择步骤图例。
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